1. Кристаллическая структура и атомное расположение
1.1 Атомное расположение
<100>Кристаллическое направление
- Поверхностное атомное расположение: атомы расположены вдоль края куба, образуя квадратную сетку.
- Атомная плотность: самая низкая (около атомов/см²), атомное расстояние большое, а поверхностная энергия высока.
- Направление связывания: поверхностные атомные связи перпендикулярны плоскости кристаллов и обладают высокой химической активностью.

100 010 001
<110>Кристаллическая поверхность
- Атомное расположение: расположено вдоль диагонального направления кубической поверхности с образованием прямоугольной сетки.
- Атомная плотность: средняя (около атомов/см²).
- Направление связывания: поверхностные атомные связи наклоняются на 45 градусов с высокой механической прочностью.

1.2 Поверхностная энергия и химическая стабильность
<111>><110>><100>(Ранжирование химической стабильности)
- <111>Поверхность обладает лучшей коррозионной стойкостью из -за его высокой атомной плотности и сильной связи;
- <100>Поверхностные атомы свободны и легко запечатлеваются химическими веществами (такими как Ко).

2. Анизотропное поведение
2.1 Мокрое химическое травление (в качестве примера забирает Ко)
| Кристаллическая ориентация | Скорость травления (80 градусов, 30% КОН) | Морфология травления | Отношение анизотропии (<100>:<111>) |
| <100> | ~ 1,4 мкм/мин | V-grove (боковая стенка 54,7 градуса) | 100:1 |
| <110> | ~ 0. 8 мкм/мин | Вертикальная глубокая канавка (боковина 90 градусов) | 50:01:00 |
| <111> | ~ 0. 01 мкм/мин | Плоская поверхность (остановка травления) | - |
- Ключевой механизм: скорость травления KOH на кремнии напрямую связана со степенью воздействия атомных связей вдоль направления кристалла.
- <100>: Атомные связи легко подвергаются атаке OH⁻, а скорость травления быстрая;
- <111>: Атомные связи плотно защищены и почти нереактивными.
2.2 Сухое травление (например, травление в плазме)
- Ориентация кристаллов мало влияет, но<111>Поверхность высокой плотности может вызвать эффект микробайки и образовывать локальную шероховатость.
3. Сравнение характеристик процесса
3.1 Качество оксидного слоя
| Кристаллическая ориентация | Плотность дефектов sio₂ (CM⁻²) | Плотность состояния интерфейса (CM⁻² · ev⁻⁻) | Ток утечки ворот (NA/CM²) |
| <100> | <1×10¹⁰ | ~1×10¹⁰ | <1 |
| <111> | ~1×10¹¹ | ~1×10¹¹ | >10 |
| <110> | ~5×10¹⁰ | ~5×10¹⁰ | ~5 |
- <100>Преимущества: низкоразмерный оксидный слой является ядро требованием устройств CMOS.
3.2 Mobility Carrier (300K)
| Кристаллическая ориентация | Электронная подвижность (см²/(V · S)) | Мобильность отверстий (см²/(v · с)) |
| <100> | 1500 | 450 |
| <110> | 1200 | 350 |
| <111> | 900 | 250 |
- Причина:<100>Кристаллическая плоскость соответствует симметрии кремниевой решетки, уменьшая рассеяние носителей.
4. Механические и тепловые свойства
4.1 Механическая прочность<111>><110>><100>
- Строгость разрушения: {{0}}. 8 МПа · M¹/², 0. 7 MPA · M¹/², 0,6 МПа · M¹/²
- Пример применения: датчики давления MEMS в основном используют<110>пластики, потому что их устойчивость к усталости лучше, чем<100>.
4.2 Коэффициент термического расширения
Анизотропия кремния приводит к различиям в коэффициентах термического расширения в разных направлениях кристаллов:
- <100>: 2.6×10⁻⁶ /K
- <110>: 1.6×10⁻⁶ /K
- <111>: 0.5×10⁻⁶ /K
Влияние:<111>Пластики склонны к напряжению в высокотемпературных процессах, и тепловые бюджеты должны быть тщательно разработаны.
5. Сценарии приложения
5.1 <100>кристаллическая ориентация
- Интегрированные схемы (ICS): более 95% мировых логических чипов (такие как процессоры и драмы)<100>пластины.
- Преимущества: низкая плотность состояния интерфейса, высокая подвижность носителей и однородность оксида.
- Солнечные элементы: структура пирамиды, образованная анизотропным травлением, с отражательной способностью<5%.
- Пример: 3NM процесса TSMC основан на<100>кремний, с длиной ворот 12 нм.
5.2 <110>Кристаллическая ориентация
Устройства MEMS:
- Accelerometers: Use vertical deep grooves to make movable masses (aspect ratio >20:1).
- Датчики давления: коэффициент пьезорезиседа является крупнейшим в<110>Направление (например, коэффициент π₁₁ кремния составляет 6,6 × 10^-11 pa⁻⁻).
- Высокочастотные устройства:<110>Силиконовые субстраты могут снизить стресс несоответствия решетки при эпитаксиальном росте GaAs.
5.3 <111>Кристаллическая ориентация
Оптоэлектронные устройства:
- Ган Эпитаксиальный: высокая решетка сочетается с<111>кремний (17% несоответствие по сравнению с<100> 23%).
- Квантовые точечные массивы: атомные плоскости высокой плотности предоставляют упорядоченные сайты зародышеобразования.
- Шаблоны наноструктуры: используется для кончиков зондов AFM или роста нанопроволоков.
6. Стоимость и промышленная сеть
| Кристаллическая ориентация | Доля рынка | Цена (относительно<100>) | Стандартизированная зрелость процесса |
| <100>> | 90% | Эталон (1 ×) | Полностью стандартизирован |
| <110> | ~5% | 2–3× | Частично настроенный |
| <111> | <5% | 4–5× | Высоко индивидуально |
Драйверы стоимости:
- <100>Вафры имеют самую низкую стоимость из -за экономии масштаба;
- <111>Вафры требуют специальных процессов резки и полировки.
Резюме: ключевая основа для выбора ориентации кристаллов
| Требовать | Рекомендуемая кристаллическая ориентация | Причины |
| Высокопроизводительные CMOS | <100> | Низкая плотность состояния интерфейса, высокая подвижность, зрелая цепочка процессов |
| MEMS Deep Trench Structure | <110> | Вертикальная способность травления, высокая механическая прочность |
| Оптоэлектронные устройства/квантовые материалы | <111> | Высокая химическая стабильность, преимущество сопоставления решетки |
| Низкая стоимость массового производства | <100> | Эффект масштаба, стандартизированная цепочка поставок |










