Какие существуют методы очистки кремниевых пластин?

Существует два метода удаления загрязнений с кремниевых пластин: физическая очистка и химическая очистка.
1. Химическая очистка заключается в удалении невидимых загрязнений атомов и ионов. Существует множество методов, таких как экстракция растворителями, травление (серная кислота, азотная кислота, царская водка, различные смеси кислот и т. д.) и плазменный метод. Среди них метод очистки системы перекисью водорода имеет хороший эффект и незначительное загрязнение окружающей среды. Общий метод заключается в очистке кремниевой пластины раствором кислоты с соотношением состава H2SO4:H2O2=5:1 или 4:1. Сильные окислительные свойства чистящего раствора позволяют разлагать и удалять органические вещества; после промывки сверхчистой водой используйте щелочь с соотношением состава H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1 или 5:1:1 или 7:2:1. Из-за окисления H2O2 и комплексообразования NH4OH, многие ионы металлов образуют устойчивые растворимые комплексы и растворяются в воде; затем используйте кислотный чистящий раствор с соотношением состава H2O:H2O2:HCL=7:2:1 или 5:2:1 из-за окисления H2O2, растворения соляной кислоты и комплексообразования хлорид-ионов, многие металлы генерируют сложные ионы, растворимые в воде, что позволяет достичь цели очистки.
Радиотрассирующий атомный анализ и масс-спектрометрический анализ показали, что система пероксида водорода оказывает наилучшее очищающее действие на кремниевые пластины, при этом все используемые химические реагенты H2O2, NH4OH и HCl могут полностью улетучиваться. При очистке кремниевой пластины с помощью H2SO4 и H2O2 на поверхности кремниевой пластины останется около 2×1010 атомов серы на квадратный сантиметр, которые можно полностью удалить последним кислотным чистящим раствором. Очистка кремниевой пластины с помощью системы H2O2 не оставляет следов, менее вредна, а также полезна для здоровья работников и защиты окружающей среды. После очистки кремниевой пластины чистящим раствором на каждом этапе ее необходимо тщательно промыть сверхчистой водой.
2. Существует три метода физической очистки.
(1) Чистка щеткой или скребком: позволяет удалить загрязнения и большую часть пленки, прилипшей к листу.
(2) Очистка под высоким давлением: поверхность листа распыляется жидкостью, а давление сопла достигает нескольких сотен атмосфер. Очистка под высоким давлением основана на распылении, поэтому пленку нелегко поцарапать и повредить. Однако распыление под высоким давлением приводит к образованию статического электричества, которого можно избежать, регулируя расстояние и угол от сопла до пленки или добавляя антистатики.
(3) Ультразвуковая очистка: в раствор вводится ультразвуковая звуковая энергия, а загрязнения на пленке смываются кавитацией. Однако удалить частицы размером менее 1 микрона с узорчатого полотна труднее. Увеличьте частоту до сверхвысокой частоты, и эффект очистки будет лучше.