Электронная почта

sales@sibranch.com

Ватсап

+8618858061329

SiC пластина

SiC пластина

Наши пластины карбида кремния доступны в широком диапазоне размеров и спецификаций, что позволяет нашим клиентам выбрать лучший вариант для своих конкретных потребностей. Мы предлагаем как голые пластины, так и эпитаксиальные пластины, и можем адаптировать нашу продукцию в соответствии с требованиями любого проекта.
Отправить запрос
Теперь говорите
Описание
Технические параметры
Описание продукта

Пластины и подложки карбида кремния (SiC) — это специализированные материалы, используемые в полупроводниковой технологии, изготовленные из карбида кремния, соединения, известного своей высокой теплопроводностью, превосходной механической прочностью и широкой запрещенной зоной. Исключительно твердые и легкие пластины и подложки SiC обеспечивают надежную основу для изготовления мощных высокочастотных электронных устройств, таких как силовая электроника и радиочастотные компоненты.

Уникальные свойства пластин карбида кремния делают их идеальными для применений, требующих работы при высоких температурах, суровых условиях окружающей среды и повышенной энергоэффективности.

По сравнению с обычными устройствами на основе Si, силовые устройства на основе SiC имеют более высокую скорость переключения, более высокое напряжение, более низкое паразитное сопротивление, меньшие размеры и меньшие требования к охлаждению из-за возможности работы при высоких температурах.

200mm SiC Wafers

Наши пластины карбида кремния доступны в широком диапазоне размеров и спецификаций, что позволяет нашим клиентам выбрать лучший вариант для своих конкретных потребностей. Мы предлагаем как голые пластины, так и эпитаксиальные пластины, и можем адаптировать нашу продукцию в соответствии с требованиями любого проекта.

В SiBranch мы стремимся предоставить нашим клиентам высочайший уровень обслуживания и поддержки. Наша команда экспертов всегда готова ответить на любые вопросы и предоставить рекомендации по лучшим продуктам и решениям для вашего проекта. SiBranch предлагает широкий спектр продуктов и услуг для удовлетворения разнообразных потребностей наших клиентов. Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать больше о наших продуктах и ​​о том, как мы можем помочь вам в достижении ваших целей.

 

4H ТИП N SiC 100MM, 350СПЕЦИФИКАЦИЯ ПЛАСТИН мкм

Номер статьи

W4H100N-4-PO (или CO)-350

Описание

Подложка 4H SiC

Политип

4H

Диаметр

(100+0.0-0.5) мм

Толщина

(350±25) мкм (инженерный класс ±50 мкм)

Тип оператора связи

n-типа

легирующая примочка

Азот

Удельное сопротивление (RT)

0.012-0.025Ом▪см (инженерный уровень<0.025Ω▪cm)

Ориентация пластины

(4+0.5) градус

Инженерный класс

Уровень производства

Уровень производства

2.1

2.2

2.3

Плотность микротрубок

Меньше или равно 30 см-²

Меньше или равно 10 см-²

Меньше или равно 1 см-²

Микротрубка Свободная зона

Не указан

Больше или равно 96 %

Больше или равно 96 %

Ориентация плоская (OF)

 

Ориентация

Параллельно {1-100} ±5 градусов

Ориентация плоской длины

(32,5±2,0) мм

идентификационная квартира (IF)

 

Ориентация

Si-face: 90 градусов по часовой стрелке, от плоской ориентации ± 5 градусов

Идентификация плоской длины

(18.0+2.0) мм

 

Поверхность

Вариант 1: стандартная полировка Si-face Оптическая полировка C-face с поддержкой Epi

Вариант 2: Si-face CMP Epi-ready, оптическая полировка C-face

Упаковка

Транспортировочная коробка с несколькими пластинами (25 шт.)

(Отдельная вафельная упаковка по запросу)

 

6H N-ТИП SiC, СПЕЦИФИКАЦИЯ 2-ДЮЙМОВОЙ ПЛАСТИНЫ

Номер статьи

W6H51N-0-PM-250-С

Описание

Подложка SiC производственного класса 6H

Политип

6H

Диаметр

(50,8±38) мм

Толщина

(250±25) мкм

Тип оператора связи

n-типа

легирующая примочка

Азот

Сопротивление (RT)

0.06-0.10Ом▪см

Ориентация пластины

(0+0.5) градус

Плотность микротрубок

Меньше или равно 100 см-²

Ориентация плоской ориентации

Параллельно {1-100} ±5 градусов

Ориентация плоской длины

(15,88±1,65) мм

Идентификация плоской ориентации

Си-лицо: 90 градусов по часовой стрелке. ориентация по прямой, плоская ±5 градусов

Идентификация плоской длины

(8+1.65) мм

Поверхность

Стандартная полировка Si-face

C-образная поверхность матовая

Упаковка

Упаковка: упаковка с одной пластиной или коробка для транспортировки нескольких пластин.

 

Изображение продукта

SiC GaN Wafer1

Silicon Carbide (SiC) Wafers

 

Пластины карбида кремния (SiC)

Пластины карбида кремния (SiC) представляют собой тип полупроводникового материала, используемого в производстве электронных и оптоэлектронных устройств, требующих работы при высоких температурах, высоком напряжении и высокой частоте. SiC — это полупроводниковый материал с широкой запрещенной зоной, а это означает, что он имеет более высокое напряжение пробоя и может работать при более высоких температурах, чем обычные полупроводники, такие как кремний.

Пластины SiC обычно производятся с использованием методов физического переноса паров (PVT) или химического осаждения из паровой фазы (CVD). В методе PVT затравочный кристалл SiC помещается в высокотемпературную печь, а исходный материал, обычно кремний или углерод, нагревается до тех пор, пока он не испарится. Пар переносится газом-носителем, обычно аргоном, и осаждается на затравочном кристалле, образуя монокристаллический слой SiC. В методе CVD слой SiC наносится на подложку путем реакции газовой смеси, содержащей предшественники кремния и углерода, при высоких температурах.

После выращивания кристалла SiC его нарезают на тонкие пластины и полируют до высокой степени плоскостности и гладкости. Полученные пластины SiC затем можно использовать в качестве платформы для выращивания дополнительных полупроводниковых слоев, которые можно легировать примесями для создания областей p-типа и n-типа для изготовления устройств.

Пластины SiC имеют ряд преимуществ перед другими полупроводниковыми материалами, такими как кремний. SiC имеет более высокую теплопроводность, а это означает, что он может работать при более высоких температурах, не подвергаясь термическому пробою. Кроме того, SiC имеет более высокое напряжение пробоя и может работать при более высоких напряжениях и частотах, чем кремний, что делает его пригодным для таких приложений, как мощная электроника и высокочастотные устройства.

 

Более глубокое изучение свойств пластин SiC

Уникальная электронная зонная структура пластин SiC является ключом к их исключительным свойствам. Широкая запрещенная зона создает серьезные препятствия для преодоления электронов, что приводит к двум ключевым преимуществам:

Высокотемпературная стабильность:Низкая концентрация собственных носителей означает, что устройства на основе карбида кремния могут работать при повышенных температурах без значительных токов утечки, что идеально подходит для требовательных сред.

Электрическое поле с высоким пробоем:Широкая запрещенная зона также способствует высокой способности выдерживать высокие напряжения, что позволяет создавать устройства с высокими блокирующими напряжениями и низким сопротивлением в открытом состоянии.

Помимо электрических свойств, пластины SiC также превосходны в термических и механических аспектах.

Эффективное рассеивание тепла:Исключительная теплопроводность позволяет SiC эффективно рассеивать тепло, что является критически важным свойством для приложений с высокой мощностью.

Долговечность в суровых условиях:Высокая механическая прочность и твердость делают карбид кремния устойчивым к износу и пригодным для работы в сложных условиях.

SiC существует в различных формах, называемых политипами, отличающихся стопочным расположением атомов кремния и углерода. Среди них наиболее распространены в электронике 4H-SiC и 6H-SiC.

4H-SiC:Предпочтителен для силовой электроники из-за превосходной подвижности электронов и более широкой запрещенной зоны, что приводит к более высокой эффективности и производительности.

6H-SiC:Находит применение в высокотемпературных и высокочастотных устройствах благодаря более высокой подвижности дырок и немного более узкой запрещенной зоне.

Выбор политипа зависит от потребностей конкретного приложения. Такие факторы, как желаемые электрические свойства, условия эксплуатации и целевая производительность устройства, играют роль в выборе оптимального типа пластины SiC.

 

 

почему выбрали нас

 

Наша продукция поставляется исключительно от пяти крупнейших мировых производителей и ведущих отечественных фабрик. Поддерживается высококвалифицированными отечественными и международными техническими командами и строгими мерами контроля качества.

Наша цель — предоставить клиентам комплексную индивидуальную поддержку, обеспечивая бесперебойные, профессиональные, своевременные и эффективные каналы связи. Мы предлагаем низкий минимальный объем заказа и гарантируем быструю доставку в течение 24 часов.

 

Заводская выставка

 

Наш обширный ассортимент состоит из продуктов 1000+, поэтому клиенты могут размещать заказы всего за одну штуку. Наше собственное оборудование для нарезки кубиками и обратного шлифования, а также полное сотрудничество в глобальной производственной цепочке позволяют нам осуществлять быструю доставку, обеспечивая комплексное удовлетворение и удобство клиентов.

01
02
03

 

Наш сертификат

 

Наша компания гордится различными полученными нами сертификатами, включая патентный сертификат, сертификат ISO9001 и сертификат национального высокотехнологичного предприятия. Эти сертификаты отражают нашу приверженность инновациям, управлению качеством и стремлению к совершенству.

01
02
03
04
05
06
07
08
09
10
11
12
13
14

 

горячая этикетка : sic wafer, Китай sic wafer производители, поставщики, завод